Boğaziçi CT3

Cihaz Adı / Marka / Model
• Adı: Sputter Kaplama Sistemi (PVD – Saçtırma)
• Marka: VAKSİS
• Model: ANGORA

Genel Bakış
VAKSİS ANGORA, fiziksel buharlaştırma yöntemlerinden (PVD) biri olan saçtırma (sputtering) tekniği ile yüzey kaplama yapılmasını sağlayan bir kaplama sistemidir. Bakır, krom, nikel, silikon, silikondioksit, titanyum, tantal gibi farklı target (hedef) malzemeleri kullanılarak ince film kaplamalar gerçekleştirilebilir. Sistem; 4” wafer uyumluluğu, RF/DC bias seçeneği, ısıtma/soğutma ve döndürme özellikleri ile kontrollü ve tekrarlanabilir kaplama süreçlerine imkan tanır. 

Kullanım Amacı / Çıktı
• PVD–sputter yöntemi ile ince film/kaplama biriktirme
• Metal ve dielektrik targetlar ile yüzey fonksiyonelleştirme ve proses geliştirme
• RF veya DC bias ile film özelliklerinin kontrolü
• Isıtma/soğutma ve döndürme ile homojen kaplama elde edilmesi

Uygulama Alanları
• Mikro/nanofabrikasyon süreçlerinde ince film biriktirme (metal/dielektrik katmanlar)
• Sensör ve MEMS üretimi için kaplama adımları
• Elektronik ve optoelektronik bileşenlerde ara katman/elektrot kaplamaları
• Yüzey modifikasyonu, yapışma (adhesion) katmanları ve bariyer kaplamaları

Öne Çıkanlar
• 4” wafer uyumluluğu ile yaygın cleanroom proseslerine uygunluk
• RF veya DC bias seçeneği ile proses esnekliği
• 500°C’ye kadar örnek ısıtma, su soğutma ve 1–30 rpm döndürme ile kontrollü kaplama

Teknik Özellikler

Özellik Değer / Açıklama
Kaplama yöntemi PVD – Sputtering (Saçtırma)
Kullanılabilen targetlar Cu, Cr, Ni, Si, SiO₂, Ti, Ta (ve benzeri)
Taban basınç < 5 × 10⁻⁷ Torr
Örnek (wafer) boyutu 4” çap
Örnek biası RF veya DC
Örnek ısıtma 500 °C
Örnek soğutma Su soğutması
Örnek döndürme 1 – 30 rpm
Hedef sayısı 2”lik 4 adet target
Kontrol Bilgisayardan otomatik kontrol
Kullanım açıklaması Operasyonda

İletişim / Hizmet Talebi
Hizmet talebi için: [email protected]
adresine e-posta gönderebilirsiniz. (Numune türü, amaç ve tarih aralığını belirtmeniz rica olunur.)